超微形態実験室 主な装置

透過電子顕微鏡システム（JEM1400）

［特徴］

800万画素のCCDカメラを搭載。オートフォーカス、オート露光、オートモンタージュなど多彩なオート機能を搭載しており、 カメラ制御システムは顕微鏡操作システムに統合されているので直観的かつ簡単に操作できる。 最低倍率が10倍からで、視野探しから高倍率撮影までシームレスに行うことができるステージナビゲーションシステムを搭載。 一度にグリッドメッシュを4枚セットできる4連試料ホルダを装備。 画像積算によるドリフト補正機能搭載。 TEMトモグラフ用連続傾斜像撮影をオートで行うことができる。

［仕様］

• 保証分解能：0.2nm（格子像）、0.38nm（粒子像）
• 直接倍率：10～1,200,000倍
• 加速電圧：40～120kV
• 最大傾斜角：70度
• 電子線源：LaB6
• 取込み画像サイズ：800万画素
• 画像データの書式：TIFF, BMP, JPEG
• 連続傾斜像撮影アプリケーション：JEOL Recorder Ver.2.48.1.1

ＣＴ三次元再構築像作製装置 （JEOL：TEMography）

［特徴］

透過試料を連続的に傾斜させて撮影した一連の画像から、ＣＴ手法に基づいたアルゴリズムを用いて三次元再構成する。 一枚の切片の中に埋没している構造を三次元的に観察できる。 X,Y,Zの各面に加え、任意角度、位置でのスライス表示が可能。 複雑な形状も簡単に切り出すことのできるVolue Segmentation機能搭載。 三次元測長、計角した結果をファイル出力可能。 再構築画像を動画ファイルとして保存することもできる。

［仕様］

• アプリケーション（JEOL：Composer Ver.0.8.2, Visualizer Ver.1.0.0）
• 入力画像フォーマット：TIFF, BMP
• 動画ファイルフォーマット：MPEG1, AVI, PDF
• プラットフォーム：Windows7

透過電子顕微鏡システム（JEOL：JEM1220）

［特徴］

高分解能透過電子顕徴鏡として特に生物系の試料にて 高コントラスト広視野観察のできる装置である。 観察および調整操作が、 従来のマニュアル操作からコンピュータによって自動化されている。 また、試料移動などもモータ駆動方式となり全てマウスで操作できる。 また、従来のフィルム撮影に加え、SSCCDカメラを搭載し、WindowsXP上でデジタル画像情報として コンピュータに記録することができる。顕微鏡像をモニタで表示できるので ディスカッションおよび 実習にも活用できる。

［仕様］

透過電子顕微鏡（JEOL：JEM1220）

• 保証分解能：格子像0.2nm
• 加速電圧：40～120kV（自動制御）
• 直接倍率：×50～×600,000倍
• 試料：サイドエントリ方式モータ駆動/位置記憶再現機能
• 試料装着数：1個
• フィルムサイズ：5.9×8.2cm

SSCCDカメラ（Gatan Bioscan）

• 解像度：1024×1024画素（中央の750×750画素に結晶欠損のないグレードA）
• 感度：1カウント/0.3電子
• 飽和電子数：5000電子/画素
• 冷却：ペルチェ素子冷却
• 付属PC：Windows XP

走査型電子顕微鏡（JSM-7100F）

［特徴］

加速電圧30kVnにおいて分解能（1.2nm）を保証する走査電子顕徴鏡で、大電流で微細な電子プローブを長時間安定して 得られる電子光学系を装備。大電流を得るために開発されたインレンズサーマルFE電子銃と、大電流でも微小プローブ径を 維持する開き角最適化レンズを装備。 排気系にはターボ分子ポンプを使用しているので、高真空のために試料汚染の少ない像観察ができる。 二次電子像、反射電子像、EDS元素分析像の同時観察もできる。コンピュータ搭載によって自動化され操作が簡単である。 また、画像はデジタルデータとして、撮影条件も同時に保存することができる。

［仕様］

• 保証分解能：1.2nm（二次電子像）
• 直接倍率：25～1,000,000倍
• 加速電圧：0.2～30kV（0.1kVステップ）
• 試料サイズ：最大200mm（直径）
• 電子線源：サーマルFE電子銃
• 試料傾斜・回転：-5～+70°　360°
• 写真データサイズ：1280×960画素
• 付属PC：Windows7

走査型電子顕微鏡（HITACHI：S-4800）

［特徴］

超高分解能（1.0nm）を保証する電界放射電子銃をもつ走査電子顕徴鏡で、 輝度が高く、 S/N比の良い像が得られる。TVモードでも解像力のよい観察ができ、 またビームダメージを 受けやすい試料も、低加速電圧モードにおいて良好に観察できる。 大型の生物試料が装着でき、高真空のために試料汚染の少ない像観察ができる。 二次電子像と反射電子像の同時観察もできる。コンピュータ搭載によって自動化され操作が簡単である。 また、画像はデジタルデータとして、撮影条件も同時に保存することができる。

［仕様］

• 保証分解能：1.0nm（二次電子像）
• 直接倍率：20～800,000倍
• 加速電圧：0.5～30kV（0.1kVステップ）
• 試料サイズ：最大100mm（直径）
• 電子線源：冷陰極電界放出形電子銃
• 試料傾斜・回転：-5～+70°　360°
• 写真データサイズ：2560×1920画素
• 付属PC：Windows7

走査型電子顕微鏡（JCM-6000Plus）

［特徴］

卓上SEMでありながら豊富な機能を持つ走査電子顕徴鏡で、 試料観察に適した真空条件をワンタッチでモード切り替え可能。 測長機能、EDS（元素分析装置）も搭載。 軽重量の50kgで、家庭用コンセントで動作可能。

［仕様］

• 直接倍率：10～60,000倍
• 加速電圧：5,10,15kV
• 試料サイズ：最大70mm（直径）×50mm(高さ)
• 電子線源：冷陰極電界放出形電子銃
• 試料傾斜・回転：なし
• 写真データサイズ：1280×960画素
• 付属PC：Windows7

凍結割断レプリカ作製装置（JEOL：JFD II ）

［特徴］

電子ビーム蒸着により凍結割断試料、凍結割断レプリカ膜、凍結割断ディープエッチングレプリカ膜、 凍結乾燥試料等を作製することができる。試料温度は設定温度にコントロールされ、 到達真空度と共にデジタル表示により直読できる。 試料台はジンバル機構を備え、 回転数はモータによりコントロールされている。 試料、ナイフ、蒸着材料の交換は エアロック方式にて行なうことができる。

［仕様］

• 排気系 完全自動排気：ターボ分子ポンプ仕様
• 到達真空度：5×10-5Pa以下
• 温度コントロール：+ 40℃～-170℃自動制御、デジタル表示
• 試料回転：モータ駆動
• 試料傾斜：0～90°
• ナイフ移動：マイクロメータ二段方式
• 観察ルーペ：×10 切替方式
• 蒸着：マテリアル送出方式、2 極切換方式
• マテリアル：Pt-C、C
• 試料交換：ロードロック方式
• ナイフ交換：ロードロック方式
• マテリアル交換：ロードロック方式

高圧凍結装置（Leica EM Pact-II）

［特徴］

抗原の生体内局在を検出する免疫電子顕微鏡法および元素の生体内局在を検出する 元素分析法に用いる無氷晶急速凍結試料の作製。目的抗原の抗原性保持には、 超薄凍結切片および超薄凍結樹脂置換切片を使用することが求められ、免疫蛍光抗体法で 観察可能な抗原のほとんどが電顕レベルで観察可能となる。また、生体内の微少元素の局在を 検出するＸ線元素分析にも同様の効果が得られる。これらの効果には、凍結の影響等による 形態変化を最小限に抑え、かつきわめて生体に近いミリセカンド単位のダイナミックな超微形態情報が得られる。

［仕様］

• 無氷晶凍結領域：表面から深さ200μm
• 冷却方法：液体窒素ジェットによる高速冷却
• 処理速度：1時間に120試料の凍結が可能
• 液体窒素容器の液面：自動制御
• 凍結結果：操作毎に温度／圧力曲線表示

サンドイッチ凍結装置（マリンワークス MW-SFD-01）

［特徴］

生物試料を二枚の金属板に挟み液体冷媒に投入するサンドイッチ凍結法により、微生物や培養細胞および動物組織を急速凍結する装置

［仕様］

• 外形Φ158mm×H380mm
• 冷却方法：液体冷媒への投入
• 冷媒：イソペンタンを液体窒素で冷却
• 適応試料：微生物や培養細胞等
• 試料保持用金属板：銅ディスク 直径3mm(消耗品)

凍結置換システム（LEICA : EM AFS2、EM FSP）

［特徴］

低温固定された試料の通常の凍結置換操作をプログラム実行する。

［仕様］

• 仕様温度範囲-140～+65℃
• 操作ステップ時間：0～999.9時間の範囲で設定可能
• 3つの保持時間／温度：設定可能
• 2種類の温度変化率（2段階の設定温度間）：設定可能
• プログラムメモリ：10個
• 自動包埋プロセッサ(EM FSP)装着

凍結超薄切片作製装置（Leica EM FCS attached to Leica UCT）

［特徴］

凍結超薄切片作製装置FCSをLeicaミクロトームに装着することによって凍結超薄切片が作製できる。 ～－175℃の広い温度制御範囲を持つこの装置は、アーティファクトのない凍結生物切片の作製に威力を発揮し、 免疫電顕や形態学、元素分析等の前処理装置として最適。 さらに、常温下では切削が難しかった高分子材料（ゴム、プラスチック、フィルム）等の切削にも幅広く対応する。

［仕様］

• 温度範囲：～－175℃の広い範囲で温度設定可能 （－175℃まで数分で到達）
• 温度表示：デジタル表示（ナイフ、試料、チェンバ内）
• LN2量表示：LEDランブによりLN2量表示
• LN2警報装置：LN2ガス不足時に警報ランプと警報音

真空蒸着装置（JEOL：JEE-4X）

［特徴］

電子顕微鏡の試料作製のための切片、薄膜のカーボン補強、レプリカ膜、 金属薄膜の作製およびシャドウイング等の処理、高真空を必要とする実験を行なうことができる。 金属を溶解蒸発させる金属蒸着法とカーボンロッドを白熱蒸発させるカーボン蒸着法が使用できる。 真空度は電離真空計によりモニタできる。

［仕様］

• 到達真空度：2×10^-4Pa
• 蒸着用電源：25V、40A
• 電極数：内部2組、外部3組

走査電顕試料作製装置等

［特徴］

走査電子顕微鏡試料作製等に必要とする装置一式である。 走査電子顕微鏡試料の乾燥を液体の表面張力の影響を被ることなく自然の形態を保持して 乾燥させることのできる臨界点乾燥装置と凍結乾燥装置、導電性のない走査電子顕微鏡試料に対して 金属薄膜を回り込みよくコーティングするイオンスパッタ装置、試料のイオンスパッタおよび ダイヤモンドナイフおよび支持膜の親水化処理装置、微細試料の操作に必要な高倍率実体顕微鏡と ダブルアームのファイバ照明を組み合わせた装置等がある。

［仕様］

マグネトロンスパッタリング装置（真空デバイス：MSP-20-UM）

• 使用真空度：～1Pa
• 電極間電圧：DC 0～200V、AC
• 電極間電流：DC 0～50mA
• 蒸着金属：Au
• 試料台：径50mm フローティング方式
• ターゲット－試料間隔：40mm
• 試料サイズ：径50mm以下、高さ25mm以下

イオンスパッタリング装置（JEOL：JFC1100）

• 使用真空度：～10^-1Pa
• 電極間電圧：DC、AC0～2000V
• 蒸着金属：Au、Pt-Pd、Au-Pd
• 試料台：径10mmにて8個装着可能

凍結乾燥装置（JEOL：JFD-300）

• 使用圧力：～5pa
• 試料チェンバ径：160mm×高さ180mm（ガラスベルジャー）
• 試料ステージ径：80mm
• 試料ステージ温度：-15℃～30℃

凍結乾燥装置（JEOL：JFD-320）

• 使用圧力：～6.7pa
• 試料チェンバ径：内径85mm×高さ24mm
• 試料ステージ径：30mm
• 試料ステージ温度：-10℃～常温

凍結乾燥装置（真空デバイスL：VFD-30）

• 試料チェンバ径：内径120mm×高さ70mm
• 試料ステージ径：106mm
• 許容試料容器サイズ：直径100ｍｍ高さ40ｍｍ以下

親水化処理装置（JEOL：HDT-400）

• 処理モード：HIGH／L0W
• タイマ設定：0～60秒
• ターゲット材質：炭素

実体顕微鏡観察装置（Nikon：SMZ-6、Nikon：ファイバ照明装置）

• 実体顕微鏡倍率：9～80倍
• ファイバ照明部光源ランプ：反射ミラー付ハロゲンランプ15V、150W

超音波洗浄器（国際電子工業：UO150FS）

［特徴］

試薬溶解、装置部品洗浄、器具洗浄に使用する超音波洗浄器および器具乾燥器がある。

［仕様］

• 出力：150W
• 洗浄槽サイズ：295×150×150（高さ）mm

超薄切片作製室

［特徴］

電子顕微鏡用超薄切片作製のために恒温恒湿条件下にウルトラミクロトームを 防震台上に設置している。ウルトラミクロトームは100nm以下の切片を安定して得られることは もちろんであるが、切削速度、ナイフ取り付けが設定でき精巧な調節機能を備えて操作性に優れている。 また切削面とナイフとの間隔調整を正確に行なえるようそれぞれ工夫されている。 Leica製UCTはコンピュータ制御によって安定性、操作性を高めている装置である。

［仕様］

ウルトラミクロトーム（Leica：UCT）

• 試料送り機構：機械式自動送り
• 薄切速度：0.1～49.9mm/sec
• 薄切範囲：0.1～14mm
• 超薄切片繰り出し量：5nm～
• 準超薄切片繰り出し量：10nm～9.99μm
• 薄切条件記憶設定：5種類以上記憶設定
• 薄切量表示：回数および回数×厚さ表示
• 水位調節機構：装備

ウルトラミクロトーム（Reichert：OmU4）

• 試料送り機構：機械式自動送り
• 切削速度：自動0.1～90mm/sec（連続可変）
• 自動超微動試料送り：0～150nm（全送量250μm）
• 自動微動試料送り：0～0.5μm（全送量250μm）
• 照明方式：落射、バックライト

ウルトラミクロトーム（Leica：UC7）

• 試料送り機構：機械式自動送り
• 薄切速度：0.05～100mm/sec
• 薄切範囲：0.2～14mm
• 超薄切片繰り出し量：5nm～
• 準超薄切片繰り出し量：1nm～15μm
• 薄切条件記憶設定：100ユーザ設定登録可能
• 薄切量表示：回数および回数×厚さ表示
• 水位調節機構：装備

ガラスナイフ作製器

［特徴］

超薄切片作製のためのガラスナイフを正確に簡単に作製するガラスナイフ作製装置である。 材料のガラスの形状によって2種類の装置がある。

［仕様］

メッサー（三慶科学研究所：MESSER TypeC）

• ガラス材料：100×100mm、厚さ5～10mm
• 刃角の範囲：45゜

ナイフメーカー（LKB：7800）

• ガラス材料：25（38）×400mm、厚さ5～10mm
• 刃角の範囲：35～55゜

試料処理用ドラフトチェンバ

［特徴］

電顕標本の作製過程の固定、脱水、樹脂浸透において人体・環境に有害なガスの発生するものが 多くあるので、ドラフトチェンバ内で操作をする。ほとんどの行程では、組織と各液とを 撹拝する装置を用いる。

［仕様］

自動撹拌振盪機自動撹拌振盪機（Nisshin：See-Saw shaker NA-101）

試料処理用ドラフトチェンバ

［特徴］

電顕標本の作製過程の固定、脱水、樹脂浸透において人体・環境に有害なガスの発生するものが 多くあるので、ドラフトチェンバ内で操作をする。ほとんどの行程では、組織と各液とを撹拝する装置を用いる。

［仕様］

• 実験台の前面に強力な排気機構を持つ。

オスミウムコーティング装置（真空デバイス：HPC1SW）

［特徴］

高い加速電圧で強い電子線を照射して観察する高分解能走査電子顕微鏡観察において、 帯電、熱ダメージ、試料汚染の影響を除去するために試料に金属被膜をコーティングする。 本装置によるオスミウム被膜は非晶質で、高分解能観察でも金属の粒子が認められず、 また、非常に回り込みが良いため複雑な構造の試料にも対応できる。 金属コーティング装置としても使用できる。

［仕様］

• コーティング領域：径100mm,高さ40mm
• 真空到達度：1Pa以下
• 真空計：ピラニーメータ
• 放電電流：1～25mA

電子染色ライン　半自動電子染色装置（日新EM：染太郎）

［特徴］

透過電子顕微鏡超薄切片の染色を、汚染無く安定した染色のできるラインである。 マニュアル操作と半自動染色装置を使用する操作法がある。

［仕様］

• 処理能力：グリッド1～100枚／回
• 染色液量：1滴／グリッド1枚
• 洗浄：自動洗浄ユニット

秤量器

［特徴］

計測精度に応じて２種類の上皿天秤がある。

［仕様］

電子天秤（METTLER TOLEDO：AB204-S）

• 秤量範囲：220g
• 秤量精度：0.1mg

電子天秤（SARTORIUS 1216MP）

• 秤量範囲：1200g
• 秤量精度：0.01mg

熱重合器

［特徴］

重合温度と時間を設定すると自動的に温度管理をして重合を完了する。 ３機種用意しているので、同時に複数のシリーズを重合可能。

［仕様］

熱重合器（DSK:TD5000）

• 槽数：1を4段階に
• 設定温度：～100℃
• 設定時間：～24h

熱重合器（DSK:T-75-B）

• 槽数：3
• 設定温度：～120℃
• 設定時間：恒温

遠心機（KUBOTA 2010）

［特徴］

浮遊細胞の試料作製時には、各工程で遠心で試料を集める。

［仕様］

• 最高回転数：4,000rpm
• 最大遠心力：2,580×g
• 最大処理量：240ml
• 制御方式 自動制御、ブレーキ付き

試料作製室空調機室

［特徴］

試料作製室の恒温（20℃）恒湿（50％）を保っている。

Ｘ線元素分析装置(OXFORD X-MaxN150)

［特徴］

“ガイドモード”、“カスタムモード”が用意されており、習熟度によらず 正確な分析結果を得ることができる。
ユーザープロファイルを設定し、以前の作業状況を容易に再現できる。
多数のテンプレートが用意されており、ワンクリックでWordやExcel形式でレポートを作成できる。

［仕様］

• 検出元素：Be4～Cf98
• 有効検出面積：150mm2
• エネルギー分解能：127eV
• 冷却方式：ペルチェ冷却
• 機能：定性分析、定量分析、画像収集、マッピング、ラインスキャン、ビーム電流情報登録、レポート出力　等